irgendwie stell ich mich damit reichlich dämlich an.
selbst mit dieser anleitung http://viruscreativus.com/cms_view_arti ... d188de0a4f krieg ichs nicht hin. wenn ich die masche links mit vorgelegtem faden abhebe wickelt der faden sich praktisch um die masche. soll das so sein?
wenn ich dann in der rückrunde diesen faden mit der masche zusammenstricken soll krieg ich das nicht hin. ist bei mir schon der erste schritt falsch? oder wie krieg ich den 2. hin?
danke schonmal
patentmuster =(
Moderatoren: Moderator Marie, Moderator Karina, Moderator Claudia
Hallo Kluge-Fan,
vielleicht kann ich es dir einigermassen beschreiben.
Randmasche, 1 M rechts, dann Faden über die Nadel legen und 1 M links abheben, 1 M rechts usw. Die letzte Masche als Randmasche. Die Rückreihe dann Randmasche, die Masche, die in der Vorreihe rechts war, mit Faden über der Nadel links abheben. dann die nächste rechts mit dem Umschlag (Vorrheihe die linke mit Umschlag) abstricken. usw.
Es läßt sich nicht gut beschreiben, aber die angegebene Anleitung ist eigentlich gut zu verstehen, manchmal hat man aber Ladehemmungen. .
Probier es noch mal und viel Erfolg
vielleicht kann ich es dir einigermassen beschreiben.
Randmasche, 1 M rechts, dann Faden über die Nadel legen und 1 M links abheben, 1 M rechts usw. Die letzte Masche als Randmasche. Die Rückreihe dann Randmasche, die Masche, die in der Vorreihe rechts war, mit Faden über der Nadel links abheben. dann die nächste rechts mit dem Umschlag (Vorrheihe die linke mit Umschlag) abstricken. usw.
Es läßt sich nicht gut beschreiben, aber die angegebene Anleitung ist eigentlich gut zu verstehen, manchmal hat man aber Ladehemmungen. .
Probier es noch mal und viel Erfolg
Liebe Grüße aus Braunschweig
Astrid
Astrid

Hallole,
warum strickst Du das Patent nicht mit tiefer gestochenen Maschen, dann ergeben sich diese Probleme nicht.
Es wird ganz gleichmäßig, geht viel schneller - und auch wenn man mal zurückstechen muß, ist es eigentlich recht einfach.
Bei Halbpatent wird immer nur in der Hin-R die re M tiefer gestochen und die Rück-R gestrickt, wie sie kommt und bei Voll-Patent wird in jeder R die re M tiefer gestochen, die li M werden immer nur li gestrickt.
Hier nochmal zum ausdrucken
http://www.ls-liane-stitch.de/Strickmuster1.html
Viele Grüße
Liane
warum strickst Du das Patent nicht mit tiefer gestochenen Maschen, dann ergeben sich diese Probleme nicht.
Es wird ganz gleichmäßig, geht viel schneller - und auch wenn man mal zurückstechen muß, ist es eigentlich recht einfach.
Bei Halbpatent wird immer nur in der Hin-R die re M tiefer gestochen und die Rück-R gestrickt, wie sie kommt und bei Voll-Patent wird in jeder R die re M tiefer gestochen, die li M werden immer nur li gestrickt.
Hier nochmal zum ausdrucken
http://www.ls-liane-stitch.de/Strickmuster1.html
Viele Grüße
Liane
nein das hilft mir leider auch nicht. die erste antwort ist ja genau wie in der anleitung, die beste die ich bisher gefunden habe, und da steh ich irgendwie auf dem schlauch
.
und maschen tiefer stechen kann ich schon gar nicht
das ist mein erster versuch ein muster zu stechen und ich verzweifl da auch grad dran...

und maschen tiefer stechen kann ich schon gar nicht

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